DETAIL KOLEKSI

Perbandingan kebocoran tepi restorasi kelas V resin komposit : kajian pada teknik Total Etch, Self Etch, dan Selective Etch

3.7


Oleh : Josephine Amanda Karnady

Info Katalog

Nomor Panggil : 617.634 JOS p

Penerbit : FKG - Usakti

Kota Terbit : Jakarta

Tahun Terbit : 2018

Pembimbing 1 : Anastasia Elsa P.

Subyek : Dental restoration - Permanent

Kata Kunci : microleakage, total etch, self etch, selective etch

Status Posting : Published

Status : Lengkap


File Repositori
No. Nama File Hal. Link
1. 2018_TA_KG_040001400091_Halaman-judul.pdf
2. 2018_TA_KG_040001400091_Lembar-pengesahan.pdf
3. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-1-Pendahuluan.pdf 6
4. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-2-Tinjauan-pustaka.pdf
5. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-3-Kerangka-teori,-konsep,-dan-hipotesis.pdf
6. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-4-Metode-penelitian.pdf
7. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-5-Hasil-penelitian.pdf
8. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-6-Pembahasan.pdf
9. 2018_TA_KG_040001400091_Bab-7-Kesimpulan-dan-saran.pdf
10. 2018_TA_KG_040001400091_Daftar-pustaka.pdf
11. 2018_TA_KG_040001400091_Lampiran.pdf

P Penggunaan bahan dan sistem adhesi yang tepat merupakan salah satu cara untuk mengurangi kebocoran tepi restorasi. Pada penelitian ini dilakukan untuk membandingkan sistem adhesi total etch. self etch, dan selective etch pada kavitas kelas V dengan resin komposit. Sebanyak 24 gigi premolar dilakukan preparasi pada bagian bukal dan lingual kemudian dibagi kedalam 3 kelompok yaitu kelompok total etch, self etch dan selective etch. Seluruh sampel dipreparasi dengan ukuran mesio-distal 3 mm. oklusal-gingival 2 mm, dan kedalaman 2 mm menggunakan round bur high speed. Setelah preparasi dilakukan penumpatan menggunakan resin komposit (G-aenial Universal Flo, GC, Japan). Semua sampel yang telah direstorasi kemudian direndam dalam larutan methylene blue 2% selama 24 jam. Gigi dipotong secara bukolingual dan skor kebocoran tepi diamati di bavvah stereomikroskop perbesaran lOx. Analisis statistik dilakukan menggunakan uji statistik Kruskal-Wallis dan uji post hoc. Mann-Whitney. Hasil dari uji statistik Kruskal-Wallis menunjukkan hasil yang signifikan antara kelompok perlakuan. Teknik total etch merupakan kelompok perlakuan dengan kebocoran tepi paling kecil, diikut oleh kelompok selective etch dan self etch. Penggunaan asam fosfat 37% pada teknik total etch dapat mengurangi kebocoran tepi yang terjadi pada restorasi resin komposit. sedangkan kebocoran tepi yang terjadi pada teknik self etch karena menggunakan asam lemah {phosphoric acid ester monomer) maka kebocoran tepi yang terjadi lebih besar. Pada teknik selective etch kebocoran tepi yang terjadi tidak sebesar pada teknik self etch karena dilakukan pengetsaan menggunakan asam fosfat 37% pada bagian email.

O One of the most important methods for minimizing microleakage are the use ofadhesive materials and adhesive system. The purpose of this study is to compare total etch, self etch, and selective etch adhesive system on class V composite resin restorations. 24 Premolar teeth were prepared on buccal an lingual surface and devided into 3 groups, total etch, self etch and selective etch. All of the sample were prepared 3 mm mesio-distal, 2 mm occlusal-gingival, dan 2 mm deep with high speed round bur. After the preparation all the teeth were restored withcomposite resin (G-aenial Universal Flo. GC, Japan). All of the restored sampel immersed in 2% methyelene blue for 24 hours. After immersion teeth were sectioned buccolingualy and observed under a stereomicroscope with lOx magnifcation. Data were analyzed using Kruskal-Wallis and post hoc. test Mann- Whitney. There were siginifcant difference in all of the groups. Total etch group has the least microleakage followed by selective etch and self etch group. The use of phosporic acid 37% in total etch technique reduced the microleakage on composite restoration, however on self etch group because of the use of less acidic etching (phosporic acid ester monomer) more microleakage occur in this group. Selective etch group has less microleakage than self etch group because of phosporic acid 37% etching on enamel surface.

Bagaimana Anda menilai Koleksi ini ?